名 称：铜
符 号：Cu
原子量：63.55
熔 点：1083℃
沸 点：2562℃
密 度：8.94g/cm3
高纯铜，通常指4N以上的金属铜，通常把6N以上的铜成为超高纯铜，
高纯铜的制备方法主要有电解精炼法，区熔精炼法以及阴离子交换法等。我公司可以提供4N-6N的高纯铜，可加工成靶材，颗粒，棒，箔，片等形状，广泛应用于高纯度合金熔炼，晶体生长，真空镀膜等领域。
高纯铜 Cu 4N5-6N 靶材
高纯铜 Cu 3N 粉末 5um-200目
高纯铜 Cu 4N-6N 棒状 φ3*3mm 6*6mm 可定制
高纯铜 Cu 4N-5N 丝状 φ0.1-5mm
高纯铜 Cu 3N5 4N 片状 0.03-10mm
铜基合金是非常重要的合金材料，其中典型的有铜jia合金，铜锌合金，铜锡合金，铜铟硒jia合金等。常规材料如下：
我们还可以提供高纯硫化亚铜粉末，硫化铜粉末，硒化铜等。铜铟jia硒，铜锌合金等
名 称：钛
符 号：Ti
原子量：47.88
熔 点：1668℃
沸 点：3277℃
密 度：4.506g/cm3
高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛，高纯镍，主要制备方法有：碘化法，熔盐电解法，电子束熔炼法，电子束区熔法等。
高纯钛主要用于半导体材料，溅射靶材，合金材料及超高真空装置中的吸气材料。
我公司可提供4N5，5N高纯钛，采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒，用于高纯度合金熔炼，蒸发镀膜等领域。
高纯钛靶材 高纯钛粉末 高纯钛颗粒 高纯钛棒状 高纯钛丝状 高纯钛片状
我们可提供钛氧化物，氮化物及其他化合物靶材，粉末等。
溅射靶材：二氧化钛靶材，氮化钛靶材，钛酸锶晶体靶材，钛酸钡靶材等
光学镀膜材料：二氧化钛颗粒，五氧化三钛晶体颗粒等化合物及合金氧化钛TiO2
氮化钛TiN 硼化钛TiB2 钛酸锶SrTiO3 钛酸钡BaTiO3 钛铝合金Ti-Al 钛硅合金 钛钨合金
名 称：金
符 号：Au
原子量：196.97
熔 点：1064.2℃
沸 点：2808℃
密 度：19.32g/cm3
高纯金在电子行业中有着广泛应用。我公司可以供高纯金99.99%-99.999%，广泛应用于蒸发镀膜，磁控溅射等方面。主要有靶材，颗粒，进口高纯镍颗粒4N5镍颗粒，丝状，片状等形态，99.999%高纯镍颗粒，并可提供残靶，镍粒4N高纯电解镍 高纯镍块，余料回收业务。
高纯金 Au 4N-5N 靶材 根据要求定制 可回收
高纯金 Au 4N-5N 粉末100目，200目
高纯金 Au 4N-5N 棒状 φ3*3mm 可定制
高纯金 Au 4N 丝状 φ0.01-5mm
高纯金 Au 4N片状 0.03-10mm
金合金如金锗合金，金锗镍合金，金铍合金等广泛应用于电子，LED行业。
我公司可以提供产品如下：合金及化合物金锗合金（AuGe12）金锗镍合金（AuGe11.4Ni5），金锡合金（AuSn20），金银合金，金钯合金，金铍合金等
镍粒 4N高纯电解镍高纯镍块-高纯镍-宏钜金属(查看)由河北宏钜金属材料有限公司提供。河北宏钜金属材料有限公司（www.cnmetals.cn）实力雄厚，信誉可靠，在河北石家庄 的其它等行业积累了大批忠诚的客户。公司精益求精的工作态度和不断的完善创新理念将引领宏钜金属和您携手步入，共创美好未来！